光化学高压反应釜技术特点

点击次数:0   更新时间:2017-12-29 16:20:19     来源: 【关闭分    享:

     高压反应釜用于进行化学、高温高压下合成反应或催化反应时、需要同时测定压力、温度、测定转速及添加惰性气体保护,平定压力和实现在线取样或在线加料等条件下的实验环境。适用于光化学高压反应、二氧化碳还原、二氧化碳还原制甲醇,二氧化碳还原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域。
    光化学高压反应釜是由特制光源,不锈钢釜体以及控制系统组成。用于新能源,环境、新药研发领域的高温高压光化学催化、合成、降解的中试及放大生产。光化学高压反应釜技术特点:
    1、光源可按照客户要求选择,采用LCD10.1英寸液晶触摸控制器,光源光电参数及光化学反应的温度,搅拌等参数实时数字显示在屏幕上,国内独家。
    2、更专业的光化学釜体生产工艺:釜体包含压力表、防爆装置、进气阀门、取样阀门,温度测温探杆,耐压光源插入口等,在保证您的生产安全前提下更方便您的操作。
    3、嵌入式一体加热模块结构,加热更均匀。釜体、加热器可完全分离。极大的方便了反应釜的拆卸工作,提高工作效率。 
    4、光源与釜体连接部分采用专利技术保证耐压气密性,属于国内首创。
    5、采用浸入式光源设计,物料与光源充分接触,光化学反应釜配备大功率搅拌电机带动锚式搅拌桨,让物料能均匀吸收光子能量。

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